Wiss. Mitarbeiter*in (d/m/w) - 1. Qualifizierungsphase (zur Promotion)

Fakultät IV - Elektrotechnik und Informatik, Institut für Hochfrequenz- und Halbleiter-Systemtechnologien / FG Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Wiss. Mitarbeiter*in (d/m/w) - 1. Qualifizierungsphase (zur Promotion)

Teilzeitbeschäftigung ist ggf. möglich

Ihre Aufgaben

Im Rahmen der hier ausgeschriebenen Stelle soll das Themengebiet der oxidischen Dünnschicht-Bauelemente im Hinblick auf transparente Bauteile auf flexiblen Trägern erforscht werden. Ziel ist die Entwicklung transparenter, oxidischer Transistoren und entsprechender Kontaktmaterialien auf flexiblen Trägermaterialien, etwa für den Einsatz als Multielektroden-Arrays in der Bioelektronik.

Ein wesentlicher Aspekt betrifft dabei die modellbasierte Synthese neuartiger Materialverbindungen für amorphe Halbleiter und Dielektrika unter Einsatz der Co‑Sputter‑Technologie mittels Hohlkatoden‑Gasflusssputterns.

Zusätzlich soll der Stelleninhaber bzw. die Stelleninhaberin beim Aufbau und Durchführung des neuen Moduls 'Transparente Elektronik' koordinierend tätig sein. Dies umfasst die Ausgestaltung und Planung eines Labor‑Praktikums zur Dünnschichttechnologie, welches die Herstellung und Charakterisierung der Dünnschicht‑Bauelemente mit den relevanten Methoden (elektrische und optische Charakterisierung, strukturelle Charakterisierung, chemische Charakterisierung sowie die vollständige elektrische Charakterisierung der Bauelemente) beinhaltet.

Ihr Profil

• Erfolgreich abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium (Master, Diplom oder Äquivalent) in Elektrotechnik, technischer Informatik oder Physik
• Sehr gute Kenntnisse der Halbleitertechnologie inkl. der Fertigungsverfahren und Charakterisierungsmethoden
• Sehr gute Kenntnisse von vakuum‑basierten Abscheidetechnologien wie der Kathodenzerstäubung
• Die Fähigkeit zum Unterrichten in deutscher und/oder in englischer Sprache wird vorausgesetzt; Bereitschaft, die jeweils fehlenden Sprachkenntnisse zu erwerben
• Teamfähigkeit sowie Fähigkeit zum problemorientierten wissenschaftlichen Arbeiten, Engagement, Begeisterung für experimentelles Arbeiten, ein hohes Maß an Eigenständigkeit wünschenswert
• Bereitschaft zur Präsentation und Veröffentlichung von wissenschaftlichen Ergebnissen auf Projekttreffen, nationalen und internationalen Tagungen sowie in wissenschaftlichen Zeitschriften wünschenswert
• Freude an der Arbeit mit Studierenden wünschenswert

Hinweise zur Bewerbung

Ihre schriftliche Bewerbung richten Sie bitte unter Angabe der Kennziffer mit den üblichen Bewerbungsunterlagen vorzugsweise per Email an oder an die Technische Universität Berlin – Die Präsidentin – Fakultät IV, FG Technologie für Dünnschicht-Bauelemente, Prof. Dr. Bernd Szyszka, Sekr. HFT 5-2, Einsteinufer 25, 10587 Berlin.

Aus Kostengründen werden die Bewerbungsunterlagen nicht zurückgesandt. Bitte reichen Sie nur Kopien ein.

Mit der Abgabe einer Onlinebewerbung geben Sie als Bewerber*in Ihr Einverständnis, dass Ihre Daten elektronisch verarbeitet und gespeichert werden. Wir weisen darauf hin, dass bei ungeschützter Übersendung Ihrer Bewerbung auf elektronischem Wege keine Gewähr für die Sicherheit übermittelter persönlicher Daten übernommen werden kann. Datenschutzrechtliche Hinweise zur Verarbeitung Ihrer Daten gem. DSGVO finden Sie auf der Webseite der Personalabteilung:

Zur Wahrung der Chancengleichheit zwischen Frauen und Männern sind Bewerbungen von Frauen mit der jeweiligen Qualifikation ausdrücklich erwünscht. Schwerbehinderte werden bei gleicher Eignung bevorzugt berücksichtigt. Die TU Berlin schätzt die Vielfalt ihrer Mitglieder und verfolgt die Ziele der Chancengleichheit. Bewerbungen von Menschen aller Nationalitäten und mit Migrationshintergrund sind herzlich willkommen.